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      當前位置:首頁  >  技術文章

      • 2024

        3-4

        自動勻膠顯影機是一種用于半導體制造、微電子、納米技術和光電器件等領域的關鍵設備。它主要用于在襯底上均勻涂覆光刻膠,并通過顯影過程將光刻圖案轉移到襯底上。勻膠和顯影過程的實現主要依賴于以下幾個步驟:1、襯底加載:首先將待處理的襯底放入自動勻膠顯影機的載片臺上。載片臺通常具有真空吸附功能,以確保襯底在處理過程中保持穩定。2、勻膠過程:勻膠過程主要包括滴膠、旋轉涂布和溶劑蒸發三個階段。a)滴膠:在襯底中心滴上一定量的光刻膠。光刻膠的粘度、表面張力和滴膠量等參數需要根據襯底尺寸和所需...

      • 2024

        2-20

        等離子清洗機作為一種高效、環保的表面處理技術,已經在多個領域得到廣泛應用,尤其在表面處理領域展現出了巨大的潛力和價值。本文將探討等離子清洗機在表面處理領域的應用現狀,以及未來的發展趨勢。一、等離子清洗機在表面處理領域的應用汽車行業:等離子清洗機在汽車制造過程中發揮著重要作用,如點火線圈骨架表面活化、汽車門窗密封件的處理等。通過等離子清洗機的處理,可以顯著提高汽車零部件的表面質量和性能。醫療行業:在醫療器械的制造過程中,等離子清洗機被用于培養皿表面活化、醫療導管粘接前處理等,有...

      • 2024

        2-19

        實驗室等離子清洗機是一種先進的材料表面處理設備,廣泛應用于各種科學實驗和工業領域。以下是一些常見的應用領域:1、生物醫學領域:在生物醫學研究中,實驗室等離子清洗機常用于改善生物材料的親水性、細胞黏附性和生物相容性。例如,在組織工程中,通過等離子處理可以增強細胞在支架材料上的黏附和生長;在醫療器械表面改性中,等離子技術可以提高器械表面的抗凝血性能。2、納米科技領域:納米材料具有的物理和化學性質,可以用于調控納米顆粒的表面性質,如改變其親疏水性、表面電荷和功能化。這對于納米藥物遞...

      • 2024

        1-24

        實驗室等離子清洗機是一種先進的表面處理設備,廣泛應用于實驗室、電子、材料科學等領域。為了延長其使用壽命,可以從以下幾個方面進行維護和保養:1、定期檢查:定期對實驗室等離子清洗機進行檢查,包括外觀、內部結構、電氣系統等。發現問題及時進行處理,避免小問題演變成大問題,影響設備的正常運行。2、清潔保養:使用完畢后,要及時清理設備表面的灰塵、污漬等,保持設備清潔。對于設備內部的等離子發生器、真空系統、氣路系統等部件,要定期進行清潔和維護,確保其正常運行。3、使用規范:在使用時,要遵循...

      • 2024

        1-23

        臺式勻膠機的維護與保養主要包括以下幾個方面:定期檢查設備內部:包括檢查油污、緊固件等,如有問題應及時清理或更換。定期清洗設備:將設備內部的膠水殘渣清洗干凈,避免膠水殘渣積累過多導致機器故障。定期檢查設備的電氣線路:如有問題應及時更換。定期潤滑設備的零件:以防止磨損和損壞。在給設備添加潤滑劑時,應使用制造商建議的潤滑劑,遵循正確的添加程序。定期更換篩網和濾網:保證設備的正常運行和達到預期的質量標準。保持設備清潔干燥:設備內部的淤積物應定期清理,并保持設備外部清潔干燥。定期檢查設...

      • 2024

        1-16

        實驗室涂膜機是一種用于制備薄膜樣品的設備,廣泛應用于材料科學、化學、物理等領域。其技術參數包括以下幾個方面:1、涂布方式:實驗室涂膜機常見的涂布方式有線棒涂布、刮刀涂布、旋轉涂布等。不同的涂布方式適用于不同的材料和涂層要求。2、涂布速度:涂布速度是指涂膜機在單位時間內能夠涂布的面積大小。通常以平方米/小時(m2/h)為單位進行表示。涂布速度的選擇取決于實驗需求和涂層的性質。3、涂布厚度:涂布厚度是指涂層在基底上的厚度大小。通常以微米(μm)或納米(nm)為單位進行表示。涂布厚...

      • 2024

        1-3

        勻膠機旋涂儀的轉速對涂膜厚度有著顯著的影響。在旋涂過程中,轉速的大小直接關系到涂膜的厚度。首先,適中的轉速有助于勻膠機旋涂儀獲得均勻的涂膜厚度。轉速過高可能導致涂層過薄甚至無法形成連續涂層,而轉速過低則可能導致涂層過厚。這是因為轉速過高時,液體在基材表面停留時間過短,來不及形成均勻的涂層。而轉速過低時,液體在基材表面停留時間過長,導致涂層過厚。其次,轉速對涂膜厚度的影響還與涂料的性質有關。不同粘度的涂料需要不同的轉速來獲得均勻的涂層。粘度高的涂料需要較低的轉速,而粘度低的涂料...

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